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羥基化石墨烯量子點(diǎn)

簡(jiǎn)要描述：羥基化石墨烯量子點(diǎn) Hydroxylated GQDs
制備方法：水熱法
成分：羥基化石墨烯量子點(diǎn)
外觀：無(wú)色溶液
發(fā)光峰：375納米
粒度：6納米
濃度：1毫克/毫升（可達(dá)到2mg/ml）
溶液：水和乙二醇的混合物
規(guī)格：100ml




Emission Photos (1) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots Excited

  • 更新時(shí)間：2024-06-02
  • 產(chǎn)品型號(hào)：HG
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量：693

詳細(xì)介紹

 

羥基化石墨烯量子點(diǎn) Hydroxylated GQDs
制備方法：水熱法
成分：羥基化石墨烯量子點(diǎn)
外觀：無(wú)色溶液
發(fā)光峰：375納米
粒度：6納米
濃度：1毫克/毫升（可達(dá)到2mg/ml）
溶液：水和乙二醇的混合物
規(guī)格：100ml


Emission Photos (1) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots Excited by Natural Light (left) and UV Light (right)

TEM Image (2) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots 

Absorption Spectra (3) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots


 

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